品牌：MYCRO
型号：BGJ-3
BGJ-3型曝光机(光刻机)

本产品主要用于对光刻胶掩膜进行曝光以形成光刻胶图形，采用的是接触式紫外曝光。其中，BGJ-3采用单面对准方式，而BGJ-3B采用双面对准方式。本产品操作方便、稳定性高、重复性好，并具有较高的性能价格比，可广泛应用于科研和生产。
BGJ-3B双面对准曝光机具有“双面对准单面曝光”和“单面对准单面曝光”功能，双面对准方式是通过红外光将样片背面的对准标记显示在样片正面以上进行对准，对准的观察方式可以选择显微镜，也可以选择大屏幕显示器。该产品广泛应用于微机械等领域中。

技术指标及配置:
1. 掩膜尺寸： 4英寸或3英寸
2. 样片尺寸： 3英寸兼2英寸，厚度0～5mm
3. 曝光灯功率： 200W
4. 分辨率： ～2μm
5. 对准精度： ～2μm
6. 光刻最细线条： ～3μm
7.基片台行程： X向±2.5mm， Y向±2.5mm， 旋转θ向±5°
8.扫描观察范围： X、Y向±15mm
9. 显微镜： 双目分离视场，放大倍数：40X-240X
10. 机泵一个（1.0升/秒）
11.外形尺寸：620mm*520mm*620mm
12. 机台重量：70kg


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